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新ソルダーレジスト層形成システム(SR-ReFiP)
所望の段差形状のソルダーレジスト層形成が可能
独自の湿式処理により、ソルダーレジストを均一に薄膜化します。

用途例

断面SEM写真
  • ソルダーレジストの平坦化/薄膜化
  • アンダーフィルのダム加工
  • セルフアライメントによるパッド露出(フリップチップ実装の電極面露出)
  • その他3次元構造体の形成

均一薄膜化処理

処理時間 薄膜化量
最大
[µm]
最小
[µm]
平均
[µm]
標準偏差
[µm]
速度
[µm/sec]
10秒 13.9 12.6 13.1 0.37 1.31
15秒 18.0 16.5 17.4 0.36 1.16
20秒 21.2 20.1 20.7 0.33 1.04
25秒 23.3 22.3 22.8 0.30 0.91

基板寸法 : 幅 510mm × 長さ 410mm
測定箇所 : 20点

  • 優れた面内均一性
  • 高い生産性

ReFiP装置

ReFiP Processor

SR-ReFiPの優位性

諸問題を全て解決!!
 
構造 接続銅パッド
密着不良
Ni/Pd/Au
めっき短絡
半田
ブリッジ
アンダーフィル
樹脂ボイド混入
ソルダーレジスト
アンダーカット
従来 トレンチ × × × × ○
iSRO △ ◎ △ × ×
SR-ReFiP トレンチ ◎ ○ ○ ◎ ◎
iSRO ◎ ◎ ◎ ◎ ◎
ETS ◎ ○ △ ◎ ◎
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